développement de microstructures et
d'architectures)
Procédés de traitements de surface
la projection flamme, arc fil et plasma d'arc
(dépôt épais de 100 µm à quelques mm - dépôts intermédiaires 1-100
µm)
le traitement de surface par plasma
micro-onde (carburation, nitruration, carbonitruration
superficielle)
les dépôts par ablation laser (PLD) et les
dépôts CVD assistés par plasma micro-onde (dépôts minces d'épaisseur
inférieure à quelques µm)
La démarche concerne principalement :
le diagnostic de la phase plasma et le
développement de contrôle en ligne des procédés industriels de dépôt
la modélisation des phénomènes mis en jeu et
la simulation numérique des procédés
le développement de banques de données de
calculs des propriétés de transport, thermodynamiques ou
thermomécaniques nécessaires à ces modèles
l'obtention de dépôts propriétés maîtrisées
et reproductibles respectant une propriété d'usage particulière.
Organisation structurale multiéchelle des matériaux
Ce groupe s'intéresse à la genèse de nouvelles microstructures et développe des
études structurales et microstructurales aux différentes échelles,
comprises entre la dimension de la maille cristalline et la taille du
grain ou l'épaisseur de la couche.
Les matériaux actuellement concernés, massifs ou en couches, dont
les procédés d'élaboration font largement appel aux voies chimiques de
type sol-gel, sont des céramiques d'oxydes, à vocation structurale
(composites particulaires, mise en oeuvre de nanoprécipités
cohérents...) ou à vocation de fonction (composants piézoélectriques et
ferroélectriques, verres à propriétés optiques non linéaires...).
Les préoccupations microstructurales s'adressent principalement aux
interactions oxyde-oxyde et aux relations cristallographiques aux
interfaces.